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      PI真空烘箱,真空無氧PI烤箱 工業烘箱

      PI真空烘箱,真空無氧PI烤箱 工業烘箱

      簡要描述:

      PI真空烘箱,真空無氧PI烤箱用于半導體晶片、半導體封裝和MEMS器件的批量生產。主要用于PI固化,BCB固化,PBO固化,LCP纖維熱處理。

      PI真空烘箱,真空無氧PI烤箱的用途

         PI真空烘箱用于半導體晶片、半導體封裝和MEMS器件的批量生產。主要用于PI固化,BCB固化,PBO固化,LCP纖維熱處理。

         在真空下操作可降低空間的濕分蒸汽分壓而加速干燥過程,且可降低濕分沸點和物料干燥溫度,蒸汽不易外泄,所以,真空高溫無氧烘箱也適用于干燥熱敏性、易氧化、易爆和有毒物料以及濕分蒸汽需要回收的場合。

      PI真空烘箱,真空無氧PI烤箱技術性能:

      溫度范圍:室溫+50~400/500℃

      溫度調節精度:±1.0℃

      升溫速率:1~8℃/m,可調

      降溫時間:350-90℃≤90min

      氧濃度:≤10ppm 

      氧濃度到達時間:≤ 25分

      內裝:316L不銹鋼板

      外裝:冷軋鋼板,表面耐藥品性涂裝

      斷熱材:陶瓷纖維

      冷卻機構:水冷+風冷

      溫度控制方式:PID控制

      操作界面:液晶觸摸屏+PLC

      運行功能:手動定值運行、自動程序運行

      程序模式:程序運行10個,每個程序可設置25步


      真空無氧PI烤箱特點


      全自動真空固化,一鍵運行,無需人工值守

      10PPM低氧氣水平,在低氣壓下實現真空固化。

      腔體內氣流設計,改善了腔內潔凈度,節約大量N?消耗量。

      溫度控制均勻度為高,提高晶圓溫度均勻性。

      快速的加熱和冷卻性能,可減少工藝等待時間。

      內腔所以材料均為316L不銹鋼




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