半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱性能介紹：

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器過濾，使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。潔凈烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結(jié)構(gòu)。工作室內(nèi)溫度采用智能式數(shù)顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調(diào)節(jié),數(shù)顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。
半導體光刻烤箱，晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

可滿足電子電器、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。

、光刻涂膠用烘箱技術(shù)參數(shù)：      

1．內(nèi)部尺寸：600*500*750（mm） （內(nèi)尺寸可選擇）

2．內(nèi)箱分層：三層

3. 溫度范圍：RT＋10℃～300℃。

4．溫度波動：<±1℃。

5．溫度均勻：±2%（空載測試）。

  依測規(guī)范：測SENSOR置放點，離內(nèi)箱壁內(nèi)尺寸1／10處。

6．溫控裝置：高精度P.I.D智能溫控儀表， LED數(shù)字顯示及設定、P.I.D自動演算、時間定時。

溫控輸出：SSR輸出，品牌繼電器，固態(tài)繼電器。                    

測溫裝置：1支PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置，測溫精確。

氣體控制裝置：高效過濾氣體中微粒。

7．內(nèi)室材料：采用無磁性鏡面不銹鋼；外箱采用 SS41# 中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆，可防止微塵(PARTICLE) 。

8．保溫材質(zhì)：硅酸鋁。

9．特質(zhì)復合式SUS304＃不銹鋼電熱產(chǎn)生器。

保護裝置：超溫保護器，無熔絲開關。